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中山蒸发镀膜多少钱

2018-08-24

中山蒸发镀膜多少钱通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为中山蒸发镀膜材料。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。


蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。


蒸发源有三种类型。

1、电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。


2、高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。


3、电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000)的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。


3、电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000)的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。

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